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单晶圆刻蚀清洗机
单晶圆刻蚀清洗机通过单片式精准喷淋、化学作用与物理剥离，清除晶圆表面颗粒、有机物、金属离子等污染物，保障晶圆洁净度与后续工艺良率。
单晶圆刻蚀清洗机
产品特点
01
清洗方式多元：结合精准喷淋、化学作用、物理剥离多重方式作业。
02
去污范围广：可清除颗粒、有机物、金属离子等多种污染物。
03
价值突出：保障晶圆洁净，提升后续工艺良率。
应用范围
技术参数
设备尺寸
L2000 x W2653 x H2077mm（12-inch 2腔机台）
设备材质
包覆：WPP；管路：PFA
适用范围
4寸；6寸；8寸；12寸晶圆
设备稳定性
Up time≥95%；MTBF≥500H；MTBA≥168H；MTTR≤3H
设备产能
N2吹扫+离心旋干（可加IPA进行干燥）